产品工艺主要包括湿法清洗、氧化扩散、光刻、离子注入、刻蚀、薄膜、表面平坦化、背面工艺等,各工序根据产品的Design Rule、Device Mode循环交替进行,通过生产线各单步工序的制程能力严格控制、优化提升及标准化管理,最终实现功率半导体产品优越的电性能及可靠性能。
产品工艺主要包括湿法清洗、氧化扩散、光刻、离子注入、刻蚀、薄膜、表面平坦化、背面工艺等,各工序根据产品的Design Rule、Device Mode循环交替进行,通过生产线各单步工序的制程能力严格控制、优化提升及标准化管理,最终实现功率半导体产品优越的电性能及可靠性能。
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